| 專利名稱 | 一種顯示雙相不銹鋼兩相組織及晶粒晶界的電解刻蝕方法 | ||
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| 申請?zhí)?專利號 | CN202210356649.1 | 專利權(quán)人(第一權(quán)利人) | 長春工業(yè)大學(xué) |
| 申請日 | 2022-04-06 | 授權(quán)日 | 2024-12-27 |
| 專利類別 | 授權(quán)發(fā)明 | 戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 | 材料化工 |
| 技術(shù)主題 | 氫氧化鉀|奧氏體|蝕刻版畫|不銹鋼|硝酸|物理化學(xué) | ||
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 測試用樣品的制備 | ||
| 意向價(jià)格 | 具體面議 | ||
| 專利概述 | 本發(fā)明公開了一種顯示雙相不銹鋼兩相組織及晶粒晶界的電解刻蝕方法,包括:S1.配制電解刻蝕劑Ⅰ和電解刻蝕劑Ⅱ;S2.將雙相不銹鋼試樣浸泡在電解刻蝕劑Ⅰ中,進(jìn)行電解刻蝕;S3.將經(jīng)步驟S2處理的雙相不銹鋼試樣從電解刻蝕劑Ⅰ中取出,清洗、干燥后,再浸泡在電解刻蝕劑Ⅱ中,進(jìn)行電解刻蝕;S4.將經(jīng)步驟S3處理的雙相不銹鋼試樣從電解刻蝕劑Ⅱ中取出,清洗、干燥后,得到刻蝕后的雙相不銹鋼試樣;其中,所述電解刻蝕劑Ⅰ是濃度為10%~30%的氫氧化鉀水溶液;所述電解刻蝕劑Ⅱ?yàn)轶w積濃度60%~70%的濃硝酸。本發(fā)明的電解刻蝕方法,可以快捷,有效的將晶粒晶界顯現(xiàn)來,獲得鐵素體?奧氏體兩相晶粒在合金中的形狀、大小等相關(guān)信息。 | ||
| 圖片資料 |
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| 合作方式 | 具體面議 | ||
| 聯(lián)系人 | 戚梅宇 | 聯(lián)系電話 | 13074363281 |