| 專利名稱 |
一種基于可升降平臺(tái)的輥對(duì)平面紫外納米壓印裝置及方法 |
| 申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào) |
CN201710838372.5 |
專利權(quán)人（第一權(quán)利人） |
長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué) |
| 申請(qǐng)日 |
2017-09-17 |
授權(quán)日 |
2023-04-07 |
| 專利類別 |
授權(quán)發(fā)明 |
戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 |
高端裝備制造 |
| 技術(shù)主題 |
平版印刷術(shù)|機(jī)械工程|納米壓印光刻|干法蝕刻|物理學(xué)|材料科學(xué) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 |
最終產(chǎn)品制造|光機(jī)械設(shè)備 |
| 意向價(jià)格 |
具體面議 |
| 專利概述 |
本發(fā)明涉及一種基于可升降平臺(tái)的輥對(duì)平面紫外納米壓印裝置及方法，屬于紫外納米壓印光刻領(lǐng)域。調(diào)節(jié)裝置通過螺釘固定在主機(jī)架上部的滑塊三和滑塊四上，可升降平臺(tái)的步進(jìn)電機(jī)一固定于機(jī)架內(nèi)部，并通過與支撐桿軸承配合固定于機(jī)架上，工作平臺(tái)的Y軸工作平臺(tái)方向指向可升降平臺(tái)，工作平臺(tái)通過螺釘固定于機(jī)架中央的底板上，運(yùn)輸裝置一和運(yùn)輸裝置二通過螺栓分別固定于機(jī)架的兩側(cè)，紫外燈固定于機(jī)架的支撐梁上，干蝕刻裝置與機(jī)架由螺釘連接，固定于機(jī)架右側(cè)的通道中。優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)新穎，壓印裝置相較于以往的滾對(duì)平面壓印裝置有更高的生產(chǎn)效率；使得模板與襯底更好的共形接觸；減少了紫外曝光過程中熱應(yīng)力較大對(duì)模板和襯底的損傷。 |
| 圖片資料 |
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| 合作方式 |
具體面議 |
| 聯(lián)系人 |
戚梅宇 |
聯(lián)系電話 |
13074363281 |
