2026年02月23日 星期一
| 專利名稱 | 一種基于非諧振輔助的納米壓印裝置 | ||
|---|---|---|---|
| 申請?zhí)?專利號 | CN201921067351.9 | 專利權(quán)人（第一權(quán)利人） | 長春工業(yè)大學(xué) |
| 申請日 | 2019-07-10 | 授權(quán)日 | 2019-12-31 |
| 專利類別 | 實用新型 | 戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 | 高端裝備制造 |
| 技術(shù)主題 | 填充率|機(jī)械工程|微納米|納米壓印光刻|共振|分辨率 | ||
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 光機(jī)械設(shè)備 | ||
| 意向價格 | 具體面議 | ||
| 專利概述 | 本實用新型公開了一種基于非諧振輔助的納米壓印裝置，首先將襯底放在襯底卡盤中，調(diào)節(jié)Y軸位移平臺及X?Z軸位移平臺使襯底移動到模板正下方，再控制X?Z軸位移平臺使壓印裝置向下運動，直至壓印裝置與襯底微接觸，控制X?Z軸位移平臺進(jìn)行壓印，在壓印同時使用Z向振動平臺對襯底施加Z向振動，然后利用冷卻裝置對襯底進(jìn)行冷卻固化，最后用揭開式振動輔助的方法進(jìn)行脫模，本實用新型采用Z向振動平臺帶動襯底進(jìn)行壓印，提高模板空腔的填充率與微納圖案的分辨率；采用吸氣泵及多個獨立封閉通道在脫模時實現(xiàn)揭開式脫模，在模板在與襯底逐漸分離的同時進(jìn)行振動輔助，減小模板與壓印膠間的粘附力，從而減少脫模時對模板造成的損傷與毀壞，延長模板的使用壽命。 | ||
| 圖片資料 |
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| 合作方式 | 具體面議 | ||
| 聯(lián)系人 | 戚梅宇 | 聯(lián)系電話 | 13074363281 |
