產(chǎn)品情況:
光學(xué)元件
基礎(chǔ)產(chǎn)品:透鏡(直徑 2-70mm)、窗口片、反射鏡、濾光片、分光鏡、晶體鏡片(如鈮酸鋰、氟化鈣)。
特種加工:高精度球面 / 非球面鏡、紅外 / 紫外光學(xué)元件、激光元件。
工業(yè)鏡頭
類型:定焦 / 變焦鏡頭、微距鏡頭、線掃鏡頭、遠(yuǎn)心鏡頭、高分辨率激光掃描鏡頭。
應(yīng)用領(lǐng)域:工業(yè)檢測(如尺寸測量、缺陷識別)、機(jī)器人視覺、醫(yī)療設(shè)備(內(nèi)窺鏡、顯微鏡)、AR/VR 光學(xué)模組。
技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn):
雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)專利
技術(shù)突破:2025 年獲 “可見光雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)” 專利(CN222866953U),通過優(yōu)化透鏡組與孔徑光闌設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)物像畸變<0.3%,MTF 值在 208lp/mm 線對下優(yōu)于 0.1,顯著提升精密檢測成像質(zhì)量。
應(yīng)用場景:半導(dǎo)體封裝檢測、高精度機(jī)械部件測量。
工藝與設(shè)備
冷加工技術(shù):采用高速拋光機(jī)(支持 Φ0.2mm 微透鏡加工)、離子束鍍膜等先進(jìn)設(shè)備,面形精度達(dá) λ/10,表面光潔度 Ⅲ 級。
檢測能力:配備干涉儀、分光光度計(jì)等,實(shí)現(xiàn)納米級面形誤差控制。
研發(fā)儲(chǔ)備
累計(jì)申請專利 19 項(xiàng),覆蓋光學(xué)設(shè)計(jì)、鍍膜工藝等領(lǐng)域;參與國家及省級科技項(xiàng)目 4 項(xiàng),合作開發(fā)光譜儀專用鏡頭等高端產(chǎn)品。